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不负久候!先进光刻技术研讨会定档5月,武汉光博会同期同地举办

时间:2023-03-30 15:34 来源:neirongbu 点击:

2023年5月16-18日,第十九届“中国光谷”国际光电子博览会暨论坛(以下简称“武汉光博会”)将于中国光谷科技会展中心举办。同期还将举办“先进光刻技术研讨会”,届时将邀请业内知名专家,共同探讨光刻技术的前沿进展及未来发展趋势。

会议主题:先进光刻技术研讨会
会议时间:2023年5月17日9:30-16:30
会议地点:中国光谷科技会展中心三楼

会议链接:http://suo.nz/2WdBTX

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组织机构

主办单位:国家工信部、国家科技部、国家知识产权局、中国科学院、中国国际贸促会、湖北省人民政府

承办单位:武汉市人民政府、武汉东湖新技术开发区管委会

执行承办单位:浙江大学、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国科学院微电子研究所、中国激光杂志社、上海意桐光电科技有限公司

不负久候!先进光刻技术研讨会定档5月,武汉光博会同期同地举办(图1)